第167章 光刻机技术的进展(2 / 2)

。”

姜老点了点头:“既然你已经考虑清楚了,那我们可以尝试一下。不过,我还是建议我们要尽快解决100纳米光刻机的技术难题,这才是长久之计。”

林宇表示同意:“姜老,您说得对。那在组装简易光刻机和完善100纳米光刻机技术方面,您这边还需要什么支持吗?”

姜老说:“小林,我们需要一些资金来购买更多的实验材料和设备。另外,我们也希望能有更多的技术人员加入到这个项目中来,加快研发进度。”

林宇毫不犹豫地说:“姜老,资金方面我会尽快安排财务部门给您拨付。技术人员方面,我会从公司的其他部门抽调一些有经验的人员过来支援您。”

就在这时,姜老的助手小李跑过来,兴奋地说:“姜老,林总,我们刚刚在EUV光源的稳定性测试中取得了新的突破。我们调整了光源的激发频率和能量输入方式,经过长时间的测试,发现光源的输出功率波动明显减小了。”

姜老和林宇听了这个消息都非常高兴。姜老说:“这是个好消息啊。看来我们的研发方向是正确的。只要继续沿着这个方向努力,EUV光源的稳定性问题很快就能解决了。”

林宇也激动地说:“姜老,这真是个振奋人心的消息。这意味着我们的100纳米光刻机技术离成功又近了一步。希望您和您的团队能够再接再厉,早日完成研发任务。”

在离开实验室之前,林宇又鼓励了姜老和他的团队一番。他知道,光刻机技术对于天宇科技来说至关重要,它不仅关系到能否满足眼前的订单需求,更关系到公司在半导体领域的长远发展。

芯动重生之途